半導體在集成電路、通信系統、光伏發電等領域應用廣泛，大部分的電子產品制造都與半導體息息相關，承載了重要的功能。無論是從科技發展還是經濟發展來看，半導體創造的價值都不可估量，是衡量國家科學技術發展能力和發展潛力的重要因素之一。

半導體良率的提高不僅可以降低半導體產業的生產成本，還能顯著提高產品的品質和安全性能。超純水和半導體良率之間有密切的關聯性，它能用于清洗半導體材料以保證生產質量。超純水中基本不含有任何有機物、微生物、金屬離子、細菌等物質，用于清洗半導體能確保其不受雜質污染。

超純水設備是生產超純水的專用產品，采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術，生產出的超純水水質能達到18MΩ*cm（25℃）。反滲透是指超純水設備中應用了反滲透膜技術，能實現對納米級物質的分離去除，因而能有效分離出超純水中應該被去除的金屬離子、細菌、和顆粒雜質等成分。同時，由于反滲透膜擁有強大的抗污染能力，因而在生產過程中，它能有效降低超純水設備的故障率，減少清洗次數，延長設備的使用壽命。

EDI技術能對超純水進行深度脫鹽，能實現帶電荷運行加速離子遷移，提高了超純水設備的脫鹽率。并且，EDI模塊運行無污染物質產出，不會產生酸堿廢液，環保性能很好。拋光混床模塊的進一步處理，則有效確保了超純水設備的出水水質。

總而言之，超純水設備具有生產連續穩定、無污染、能耗低、工藝流程短、操作簡單等優勢，其還采用了智能程序，可以靈活進行操作，性價比很高。