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超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)NKD2000/4

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所在地上海市

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更新時(shí)間：2015-10-27 16:24:24瀏覽次數(shù)：319次

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切可（上海）機(jī)械設(shè)備有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：生產(chǎn)廠家

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所在地區(qū)：上海上海市

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

NKD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③   定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

詳細(xì)介紹

超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀(jì)的新型高功能精細(xì)無(wú)機(jī)產(chǎn)品，表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì)，如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等，利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能，可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。

納米氧化鋅的分散難點(diǎn)：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中，容易出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，導(dǎo)致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設(shè)備，很難將納米氧化鋅分散均勻，會(huì)出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，團(tuán)聚體難以打開(kāi)，而如果采用CIK研發(fā)的分散設(shè)備，研磨分散機(jī)的話，先研磨后分散機(jī)，解決團(tuán)聚問(wèn)題，可達(dá)納米氧化鋅還原至納米級(jí)。

CIK研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+分散機(jī)結(jié)合而成的設(shè)備，主要是為了解決納米級(jí)物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米*、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級(jí)物料的分散。

NKD2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

NKD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

型號(hào)	流量 L/H	輸出轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	馬達(dá)功率 KW	出/入口連接
NKD2000/4	700	9，000	23	2.2	DN25/DN15
NKD2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
NKD2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
NKD2000/20	20，000	2，850	23	37	DN80/DN65
NKD2000/30	40，000	1，420	23	55	DN150/DN125
NKD2000/50	80，000	1，100	23	110	DN200/DN150