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納米光觸媒分散機

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產品型號NKD2000/4

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更新時間：2015-10-27 16:27:38瀏覽次數：328次

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產品簡介

NKD2000系列納米光觸媒分散機是CIK（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

詳細介紹

納米光觸媒分散機，光觸媒研磨分散機，納米*分散機，光觸媒超細分散機，納米分散機，光觸媒是一種以納米級*為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱。

在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學腐蝕、無毒等優點，價格也適中，具有較高的性價比，因而市場上大多使用納米*作為主要原材料。

對于納米級物料的分散，容易出現團聚的現象，納米*的分散也不例外。團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現象。由于團聚顆粒粒度小，表面原子比例大，比表面積大，表面能大，處于能量不穩定狀態，因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起，很容易團聚，形成團聚狀的二次顆粒，乃至三次顆粒，使粒子粒徑變大，在每個顆粒內部有細小孔隙。

納米顆粒的團聚一般分為兩種：軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理，人們的看法比較*，即，軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致，由于作用力較弱，可以通過一些化學作用或施加機械能的方式來消除。

研磨分散機是高剪切膠體磨+高剪切分散機的設備，將兩者一體化，解決了時間差的問題，因為物料團聚是一個瞬間的過程，研磨后立即分散，效果好，效率高。

NKD2000系列納米光觸媒分散機是CIK（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

型號	zui大處理量 L/H	輸出轉速 rpm	標準線速度 m/s	馬達功率 KW	進出口尺寸
NKD2000/4	300-1000	9，000	23	2,.2	DN25/DN15
NKD2000/5	3，000	6，000	23	7.5	DN40/DN32
NKD2000/10	8，000	4，200	23	15	DN50/DN50
NKD2000/20	20，000	3，000	23	22	DN80/DN65
NKD2000/30	40，000	1，500	23	37	DN150/DN125
NKD2000/40	70，000	1，500	23	55	DN150/DN125
NKD2000/50	125，000	1，100	23	110	DN200/DN150