上海依肯機械設備有限公司
上海依肯機械設備有限公司
CMD2000/4中試型研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到Z低，保證機器連續24小時不停機運行。
中試型研磨分散機，實驗室中試研磨分散機，中試型分散機，中試型研磨機，專為實驗室研發，模擬生產流程，為量產提供可靠的數據論證。該中試型型機器和大型量產機型配置相同，且分散頭的種類及相應線速度也相同，中試過程中的工藝參數在量產化之后不要重新調整，而將機器型號升級過程中的風險降到zui低。
中試型研磨分散機是在中試型膠體磨的基礎上加入了一組分散盤，剪切細化能力要強于高剪切膠體磨。
CMD2000/4中試型研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000/4中試型研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
IKN中試型研磨分散設備的膠體磨頭有很高的線速度，以及特殊上深下淺的三級磨頭結構，一次處理即可滿足細化要求。*級刀頭形狀，可以把相對大塊的物料進行初步粉碎，以便能順利通過更細的兩級進行細微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結構，相較溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產品一樣磨頭采用三級磨齒，但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
CMD2000/4中試型研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到zui低，保證機器連續24小時不停機運行。更多信息請段明明。
CMD2000/4中試型研磨分散設備有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送。
CMD2000膠體磨標準配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼。 特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。
CMD2000膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。CM2000設計耐受溫度范圍為-20°C-180°C。 可供選擇的選配部件有： -動密封動靜環材質搭配（碳化硅，合金等） -靜態密封圈材質選型（是否有腐蝕性物料，酸堿度等） -磨頭定轉子材質（不銹鋼，碳化鎢鈷，三氧化二鋁等） -是否需要我司配置電控柜。
中試型研磨分散機，實驗室中試研磨分散機，中試型分散機，中試型研磨機，更多資料請依肯段明明！
您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
泵閥商務網 設計制作，未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
